壓力控制閥
CBV系列型智能流導(dǎo)控制閥是泵端壓力控制系統(tǒng)的核心單元，集成了蝶形流導(dǎo)閥門、測(cè)量電路、閉環(huán)控制器、通信和閥門驅(qū)動(dòng)電路。
Learn more北京捷造光電技術(shù)有限公司
產(chǎn) 品
部件產(chǎn)品
捷造的專用核心部件和儀器，廣泛應(yīng)用于光伏和半導(dǎo)體設(shè)備，用于解決工藝制程中核心操作，這些部件包含等離子體發(fā)生、濺射陰極、蒸發(fā)源、壓力控制閥、門閥、真空機(jī)械手、膜厚測(cè)量?jī)x等。
傳輸閥
緊湊型高真空傳輸閥，用于產(chǎn)線Load/Lock和隔離通道。
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離子源和離子槍
空心陰極和熱陰極離子源，最大電流50-150A，中低壓工作電壓，可用于離子束加熱、反應(yīng)離子輔助沉積等工藝制程
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磁控濺射陰極
靶材2英寸-4英寸的標(biāo)準(zhǔn)磁控濺射陰極，超高真空、可調(diào)節(jié)的磁場(chǎng)平衡和強(qiáng)度，DC/RF兼容，可用于濺射和共濺射系統(tǒng)
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旋轉(zhuǎn)陰極驅(qū)動(dòng)
長(zhǎng)壽命大功率旋轉(zhuǎn)陰極驅(qū)動(dòng)端，側(cè)裝和吊裝結(jié)構(gòu)，陶瓷水密封，大面積浮動(dòng)電刷，最大功率60kVA或驅(qū)動(dòng)2.5米靶材。用于GW級(jí)光伏PVD產(chǎn)線。
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共蒸發(fā)源
安裝于標(biāo)準(zhǔn)450平臺(tái)的的多蒸發(fā)源共沉積模塊，2-6個(gè)獨(dú)立蒸發(fā)源，獨(dú)立氣動(dòng)擋板，直流閉環(huán)電流控制。用于OLED/鈣鈦礦材料研究。
Learn more研發(fā)設(shè)備
大學(xué)實(shí)驗(yàn)室、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)材料實(shí)驗(yàn)室常用薄膜沉積設(shè)備，主要有6-12英寸PECVD、450標(biāo)準(zhǔn)平臺(tái)PVD等實(shí)驗(yàn)裝備。
JPE系列6"-12"PECVD
單室/多室全自動(dòng)PECVD平臺(tái)，工件6-12英寸標(biāo)準(zhǔn)硅片，集成氣路柜、真空機(jī)械手傳輸、氮?dú)夥忾]環(huán)境片盒。
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JSP系列300mm PVD
小型Inline PVD，單端/雙端接口，兼容平面濺射陰極和空心陰極離子鍍
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HCD450空心陰極離子鍍
鈣鈦礦背電極TCO低損傷解決方案，反應(yīng)沉積優(yōu)質(zhì)金屬氧化物
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